Formation of Ultra-Shallow Junctions by Plasma Doping

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Formation of Ultra-Shallow Junctions by Plasma Doping

著者

和文:	Kazuo Tsutsui, Yuichiro Sasaki, Cheng-Guo Jin, Hideki Tamura, Katsumi Okashita, Hiroyuki Ito, Bunji Mizuno, Hendriansyah Sauddin, Kenta Majima, Takahisa Satoh, Yotaro Fukagawa, Kuniyuki Kakushima, Hiroshi Iwai.
英文:	Kazuo Tsutsui, Yuichiro Sasaki, Cheng-Guo Jin, Hideki Tamura, Katsumi Okashita, Hiroyuki Ito, Bunji Mizuno, Hendriansyah Sauddin, Kenta Majima, Takahisa Satoh, Yotaro Fukagawa, Kuniyuki Kakushima, Hiroshi Iwai.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Semiconductor Technology (ISTC2006) The Electrochemical Society Inc.

巻, 号, ページ

Vol. 2006-3 pp. 232-241

出版年月

2006年3月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	ECS-ISTC2006

開催地

和文:
英文:	Shanghai, China