Irregular Increase in Sheet Resistance of Ni Silicides at Transition Temperature Range from NiSi to NiSi<sub>2</sub> Depending on Annealing Time

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Irregular Increase in Sheet Resistance of Ni Silicides at Transition Temperature Range from NiSi to NiSi₂ Depending on Annealing Time

著者

和文:	Ruifei Xiang, Koji Nagahiro, Takashi Shiozawa, Parhat Ahmet, Kazuo Tsusui, Yasutoshi Okuno, Michikazu Matsumoto, Masafumi Kubota, Kuniyuki Kakushima, Hiroshi Iwai.
英文:	Ruifei Xiang, Koji Nagahiro, Takashi Shiozawa, Parhat Ahmet, Kazuo Tsusui, Yasutoshi Okuno, Michikazu Matsumoto, Masafumi Kubota, Kuniyuki Kakushima, Hiroshi Iwai.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Semiconductor Technology (ISTC2006), The Electrochemical Society Inc.

巻, 号, ページ

Vol. 2006-3 pp. 253-257

出版年月

2006年3月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	ECS-ISTC2006

開催地

和文:
英文:	Shanghai, China