La-based oxides for High-k Gate Dielectric Application

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	La-based oxides for High-k Gate Dielectric Application

著者

和文:	Parhat Ahmet, Kuniyuki Kakushima, Kazuo Tsutsui, Nobuyuki Sugii, Takeo Hattori, Hiroshi Iwai.
英文:	Parhat Ahmet, Kuniyuki Kakushima, Kazuo Tsutsui, Nobuyuki Sugii, Takeo Hattori, Hiroshi Iwai.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	2006 8th International Conference on Solid-State and Integrated-Circuit Technology Proceedings

巻, 号, ページ

pp. 408-411

出版年月

2006年10月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	8th International Conference on Solid-State and Integrated-Circuit Technology (ICSICT2006)

開催地

和文:
英文:	Shanghai, China

DOI