Thermal Stability of NiSi Controlled by Post Silicidation Metal Doping Method

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Thermal Stability of NiSi Controlled by Post Silicidation Metal Doping Method

著者

和文:	K. Nagahiro, K. Tsutsui, T. Shiozawa, R. Xiang, P. Ahmet, K. Kakushima, Y. Okuno, M. Matsumoto, M. Kubota, H. Iwai.
英文:	K. Nagahiro, K. Tsutsui, T. Shiozawa, R. Xiang, P. Ahmet, K. Kakushima, Y. Okuno, M. Matsumoto, M. Kubota, H. Iwai.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	2006 8th International Conference on Solid-State and Integrated-Circuit Technology Proceedings

巻, 号, ページ

pp. 466-468

出版年月

2006年10月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	8th International Conference on Solid-State and Integrated-Circuit Technology (ICSICT2006)

開催地

和文:
英文:	Shanghai, China

DOI