Development of a Gas Jet-Type Z-pinch Plasma Light Source for EUV Lithography

論文・著書情報

タイトル

和文:	ガスジェットＺピンチプラズマを用いた半導体リソグラフィ用光源の開発
英文:	Development of a Gas Jet-Type Z-pinch Plasma Light Source for EUV Lithography

著者

和文:	作地修, 飯塚直哉, 姜飛, 渡邊正人, 河村徹, 沖野晃俊, 堀岡一彦, 堀田栄喜.
英文:	Sakuchi Osamu, Iizuka Naoya, Jiang Fei, Watanabe Masato, Kawamura Tohru, Okino Akitoshi, Horioka Kazuhiko, Hotta Eiki.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

出版年月

2008年1月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:	第25回プラズマプロセシング研究会
英文:	The 25th Symposium on Plasma Processing (SPP-25)

開催地

和文:	山口市
英文:	Yamaguchi, Japan