Home >

news ヘルプ

論文・著書情報


タイトル
和文:HW-CVD法による不活性ガス導入条件下におけるμc-Si:H薄膜の作製 
英文: 
著者
和文: 富田充朗, 檜座秀一, 山田 明, 小長井 誠.  
英文: Mitsuaki Tomita, Shuichi Hiza, AKIRA YAMADA, MAKOTO KONAGAI.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文:第54回応用物理学関係連合講演会 
英文: 
巻, 号, ページ         pp. 29p-X-11
出版年月 2007年3月 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文:第54回応用物理学関係連合講演会 
英文: 
開催地
和文:青山学院相模原キャンパス 
英文: 

©2007 Tokyo Institute of Technology All rights reserved.