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論文・著書情報


タイトル
和文:高誘電率HfOxNy絶縁膜のPDAプロセスの検討 
英文: 
著者
和文: 仲野雄介, 大見俊一郎.  
英文: Yusuke Nakano, Shun-ichiro OHMI.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文:第68回応用物理学会学術講演会 講演予稿集 
英文: 
巻, 号, ページ     No. 2    p. 812
出版年月 2007年9月 
出版者
和文:応用物理学会 
英文: 
会議名称
和文:第68回応用物理学会学術講演会 
英文: 
開催地
和文:北海道大学 
英文: 

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