Decreasing of Residual Oxygen by using Si Solid Source in Cl2 -ICP Etching of Al

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Decreasing of Residual Oxygen by using Si Solid Source in Cl2 -ICP Etching of Al

著者

和文:	松谷晃宏, Hideo Ohtsuki, 小山二三夫.
英文:	Akihiro Matsutani, Hideo Ohtsuki, Fumio Koyama.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	18th International Symposium on Plasma Chemistry, ISPC18

巻, 号, ページ

出版年月

2007年8月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文:	Kyoto, Japan