イオン注入したa-(Zr,Cu)/Si 基板上薄膜のヤング率評価 | T2R2 東京科学大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	イオン注入したa-(Zr,Cu)/Si 基板上薄膜のヤング率評価
英文:

著者

和文:	村石信二, 内藤寛乃, 史蹟, 中村吉男.
英文:	Shinji Muraishi, Hirono Naito, Ji Shi, YOSHIO NAKAMURA.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	日本金属学会講演概要 (第141回・岐阜)
英文:

巻, 号, ページ

p. 286

出版年月

2007年9月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文:

©2007 Institute of Science Tokyo All rights reserved.