Effect of Plasma Power on Structure of Hydrogenated Nanocrystalline Cubic Silicon Carbide Films Deposited by Very High Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition at a Low Substrate Temperature

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Effect of Plasma Power on Structure of Hydrogenated Nanocrystalline Cubic Silicon Carbide Films Deposited by Very High Frequency Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition at a Low Substrate Temperature

著者

和文:	宮島晋介, Makoto Sawamura, 山田明, 小長井誠.
英文:	Shinsuke Miyajima, Makoto Sawamura, Akira Yamada, Makoto Konagai.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Japanese Journal of Applied Physics

巻, 号, ページ

Vol. 47 No. 5 pp. 3368-3371

出版年月

2008年5月

出版者

和文:
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会議名称

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開催地

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DOI