Low-Temperature Fabrication of Polycrystalline Si Thin Film Using Al-Induced Crystallization without Native Al Oxide at Amorphous Si/Al Interface

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Low-Temperature Fabrication of Polycrystalline Si Thin Film Using Al-Induced Crystallization without Native Al Oxide at Amorphous Si/Al Interface

著者

和文:	Youhei SUGIMOTO, 高田尚記, Takeshi HIROTA, Ken-ichi IKEDA, Fuyuki YOSHIDA, Hideharu NAKASHIMA, Hiroshi NAKASHIMA.
英文:	Youhei SUGIMOTO, Naoki TAKATA, Takeshi HIROTA, Ken-ichi IKEDA, Fuyuki YOSHIDA, Hideharu NAKASHIMA, Hiroshi NAKASHIMA.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Japanese Journal of Applied Physics

巻, 号, ページ

Vol. 44 No. 7A pp. 4770–4775

出版年月

2005年7月

出版者

和文:
英文:	The Japan Society of Applied Physics

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文: