Evaluation of Si Wire Waveguide Fabricated by Parallel Plate RIE Process using Double Layered EB Resist Containing C60

論文・著書情報

タイトル

和文:	フラーレン含有の二層構造の電子線レジストを用い、平行平板型反応性イオンエッチングで作製したシリコン細線導波路の評価
英文:	Evaluation of Si Wire Waveguide Fabricated by Parallel Plate RIE Process using Double Layered EB Resist Containing C60

著者

和文:	井上敬太, 西山伸彦, 榎本晴基, 田村茂雄, 丸山武男, 荒井滋久.
英文:	Keita Inoue, Nobuhiko Nishiyama, Haruki Enomoto, Shigeo tamura, Takeo Maruyama, Shigehisa Arai.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Digest of iNOW2008

巻, 号, ページ

No. 3-P24

出版年月

2008年8月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	iNOW 2008

開催地

和文:
英文:	Yamanashi, Japan