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論文・著書情報


タイトル
和文:XoF2プラズマによるSiの垂直平滑ドライエッチング 
英文:Vertical and Smooth Dry Etching of Si by XeF2 Plasma 
著者
和文: 松谷晃宏, 大槻秀夫, 小山二三夫.  
英文: Akihiro Matsutani, Hideo Ohtsuki, Fumio Koyama.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文:第69回応用物理学会学術講演会 
英文:The 69th Autumn Meeting of JSAP 
巻, 号, ページ     2a-A-6   
出版年月 2008年9月 
出版者
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会議名称
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開催地
和文:愛知 
英文:Aichi 

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