An efficient extraction of random and systematic gate-length variation through poly-Si resistor measurement

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	An efficient extraction of random and systematic gate-length variation through poly-Si resistor measurement

著者

和文:	中山範明, 佐藤高史, 植山寛之, 益一哉.
英文:	Noriaki Nakayama, Takashi Sato, Hiroyuki Ueyama, Kazuya Masu.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Workshop on test structure design for variability characterization

巻, 号, ページ

出版年月

2008年11月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	Workshop on test structure design for variability characterization

開催地

和文:
英文:	San Jose, USA