Deposition of Device grade poly-Si films on glasssubstrate directly at 450oC and fabrication of bottom-gate poly-Si TFTs

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Deposition of Device grade poly-Si films on glasssubstrate directly at 450oC and fabrication of bottom-gate poly-Si TFTs

著者

和文:	Lim Cheol, Jeong-Woo Lee, 半那純一.
英文:	Cheol-hyun.Lim, Jeong-Woo Lee, Jun-ichi. Hanna.

言語

English

掲載誌/書名

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巻, 号, ページ

出版年月

2009年7月

出版者

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会議名称

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開催地

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