Origin of flat band voltage shift in HfO2 gate dielectric with La2O3 insertion

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Origin of flat band voltage shift in HfO2 gate dielectric with La2O3 insertion

著者

和文:	角嶋邦之, K. Okamoto, M. Adachi, 舘喜一, パールハットアヘメト, 筒井一生, 杉井信之, 服部健雄, 岩井洋.
英文:	Kuniyuki KAKUSHIMA, K. Okamoto, M. Adachi, Kiichi Tachi, Ahmet Parhat, KAZUO TSUTSUI, Nobuyuki Sugii, takeo hattori, HIROSHI IWAI.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	SOLID-STATE ELECTRONICS

巻, 号, ページ

Vol. 52 pp. 1280-1284

出版年月

2008年

出版者

和文:
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会議名称

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開催地

和文:
英文:

DOI