T2R2 東京工業大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Fundamental Study of Low-Temperature Epitaxy of Si and SiGe by Photo-Assisted Chemical Vapor Deposition

著者

和文:	山田明.
英文:	AKIRA YAMADA.

種別

種別:	学位論文(博士)
国名:

言語

学位授与組織

東京工業大学

報告番号

学位授与日

1989/--/--

審査員

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