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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Fundamental Study of Low-Temperature Epitaxy of Si and SiGe by Photo-Assisted Chemical Vapor Deposition 
著者
和文: 山田明.  
英文: AKIRA YAMADA.  
種別
種別:学位論文(博士) 
国名: 
言語  
学位授与組織 東京工業大学 
報告番号  
学位授与日 1989/--/-- 
審査員  

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