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論文・著書情報


タイトル
和文:２段階シリサイド化によるHf混晶化PtSiの極薄膜化にかんする検討 
英文: 
著者
和文: 高峻, 石川純平, 大見俊一郎.  
英文: Jun Gao, Jumpei Ishikawa, Shun-ichiro Ohmi.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文:春季第５７回応用物理学関係連合講演会予稿集 
英文: 
巻, 号, ページ         p. 13-178
出版年月 2010年3月 
出版者
和文:応用物理学会 
英文: 
会議名称
和文:春季第５７回応用物理学関係連合講演会 
英文: 
開催地
和文:東海大学 
英文: 

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