溶媒キャストフィルムの成膜過程における残留応力発現メカニズム

論文・著書情報

タイトル

和文:	溶媒キャストフィルムの成膜過程における残留応力発現メカニズム
英文:	Origin of Residual Stress and Ways to Reduce It in Solvent Cast Film

著者

和文:	勝又麗香, 阿多誠介, 久保山敬一, 扇澤敏明.
英文:	Reika Katsumata, Seisuke Ata, Keiichi Kuboyama, TOSHIAKI OUGIZAWA.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	高分子学会予稿集
英文:	Polymer Preprints, Japan

巻, 号, ページ

Vol. 59 No. 1 p. 771

出版年月

2010年5月

出版者

和文:	高分子学会
英文:	Society of Polymer Science, Japan

会議名称

和文:	第59回高分子学会年次大会
英文:	59th SPSJ Annual Meeting

開催地

和文:	パシフィコ横浜（横浜市）
英文:	Pacifico Yokohama (Yokohama city)