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論文・著書情報
タイトル
和文:
英文:
A Dopant Culster in a Highly Antimony Doped Silicon Crystal
著者
和文:
金 秀鉉
,
大島 義文
, Hidetaka Sawada, Naoto Hashikawa, Kyoichiro Asayama, Tosikatu Kaneyama, Yukihito Kondo,
谷城 康眞
,
高柳 邦夫
.
英文:
Suhyun Kim
,
Yoshifumi Oshima
, Hidetaka Sawada, Naoto Hashikawa, Kyoichiro Asayama, Tosikatu Kaneyama, Yukihito Kondo,
Yasumasa Tanishiro
,
Kunio Takayanagi
.
言語
English
掲載誌/書名
和文:
英文:
Applied Physics Express
巻, 号, ページ
Vol. 3 No. 8 p. 081301
出版年月
2010年7月30日
出版者
和文:
英文:
The Japan Society of Applied Physics
会議名称
和文:
英文:
開催地
和文:
英文:
公式リンク
http://apex.ipap.jp/link?APEX/3/081301/
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