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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:A Dopant Culster in a Highly Antimony Doped Silicon Crystal 
著者
和文: 金 秀鉉, 大島 義文, Hidetaka Sawada, Naoto Hashikawa, Kyoichiro Asayama, Tosikatu Kaneyama, Yukihito Kondo, 谷城 康眞, 高柳 邦夫.  
英文: Suhyun Kim, Yoshifumi Oshima, Hidetaka Sawada, Naoto Hashikawa, Kyoichiro Asayama, Tosikatu Kaneyama, Yukihito Kondo, Yasumasa Tanishiro, Kunio Takayanagi.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Applied Physics Express 
巻, 号, ページ Vol. 3    No. 8    p. 081301
出版年月 2010年7月30日 
出版者
和文: 
英文:The Japan Society of Applied Physics 
会議名称
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英文: 
開催地
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公式リンク http://apex.ipap.jp/link?APEX/3/081301/
 

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