Above-CMOS Metal-Pattern Technique for Flexible Inductance Adjustment in Rapid Prototyping of RF SoCs

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Above-CMOS Metal-Pattern Technique for Flexible Inductance Adjustment in Rapid Prototyping of RF SoCs

著者

和文:	小谷光司, 杉本篤生, 大宮豊, 伊藤隆司.
英文:	Koji Kotani, Atsuo Sugimoto, Yutaka Omiya, Takashi Ito.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	2010 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM2010)

巻, 号, ページ

pp. 243-244

出版年月

2010年9月

出版者

和文:
英文:	2010 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM2010)

会議名称

和文:
英文:	2010 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM2010)

開催地

和文:
英文:	Tokyo