Home >

news ヘルプ

論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Optimized Oxygen Annealing Process for Vth Tuning of p-MOSFET with High-k/Metal Gate Stacks 
著者
和文: 川那子高暢, 李映勲, 角嶋邦之, パールハットアヘメト, 筒井一生, 西山彰, 杉井信之, 名取研二, 服部健雄, 岩井洋.  
英文: Takamasa Kawanago, Yeonghun Lee, Kuniyuki KAKUSHIMA, Ahmet Parhat, KAZUO TSUTSUI, 西山彰, Nobuyuki Sugii, KENJI NATORI, takeo hattori, HIROSHI IWAI.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文: 
巻, 号, ページ        
出版年月 2010年9月 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文: 
英文:ESSDERC 2010, 40th European Solid-State Device Research Conference 
開催地
和文: 
英文:Seville, Spain 

©2007 Tokyo Institute of Technology All rights reserved.