Roughness Reduction in Polycrystalline Silicon Thin Films Formed by Continuous-Wave Laser Lateral Crystallization with Cap SiO2 Thin Films

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Roughness Reduction in Polycrystalline Silicon Thin Films Formed by Continuous-Wave Laser Lateral Crystallization with Cap SiO2 Thin Films

著者

和文:	藤井俊太朗, 黒木伸一郎, 沼田雅之, 小谷光司, 伊藤隆司.
英文:	Shuntaro Fujii, Shin-Ichiro Kuroki, Masayuki Numata, Koji Kotani, Takashi Ito.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Jpn. J. Appl. Phys.

巻, 号, ページ

Vol. 48 pp. 04C129-1-4

出版年月

2010年11月

出版者

和文:
英文:	Jpn. J. Appl. Phys.

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文: