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論文・著書情報


タイトル
和文:CVD法によるCeOx絶縁膜の作製と特性評価 
英文: 
著者
和文: 幸田みゆき, 小澤健児, 角嶋邦之, パールハットアヘメト, 岩井洋, ト部 友二, 安田 哲二.  
英文: Miyuki Kouda, Kenji Ozawa, Kuniyuki KAKUSHIMA, Ahmet Parhat, HIROSHI IWAI, ト部 友二, 安田 哲二.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文: 
英文: 
巻, 号, ページ        
出版年月 2010年9月 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文:第７１回応用物理学会学術講演会 
英文: 
開催地
和文:長崎大学 
英文: 

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