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論文・著書情報


タイトル
和文:希釈酸素雰囲気熱処理を用いたLaシリケート/Si MOS構造のVFB/Vthシフトの低EOTへの適用 
英文: 
著者
和文: 鈴木 拓也, 川那子高暢, 角嶋邦之, パールハットアヘメト, 筒井一生, 西山彰, 杉井信之, 名取研二, 服部健雄, 岩井洋.  
英文: 鈴木 拓也, Takamasa Kawanago, Kuniyuki KAKUSHIMA, Ahmet Parhat, KAZUO TSUTSUI, 西山彰, Nobuyuki Sugii, KENJI NATORI, takeo hattori, HIROSHI IWAI.  
言語 Japanese 
掲載誌/書名
和文: 
英文: 
巻, 号, ページ        
出版年月 2010年9月 
出版者
和文: 
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会議名称
和文:第７１回応用物理学会学術講演会 
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開催地
和文:長崎大学 
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