Size Reduction and Phosphorus Doping of Silicon Nanocrystals Prepared by a Very High Frequency Plasma Deposition System

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Size Reduction and Phosphorus Doping of Silicon Nanocrystals Prepared by a Very High Frequency Plasma Deposition System

著者

和文:	中峯嘉文, N. Inaba, 小寺哲夫, 内田建, R. N. Pereira, A. R. Stegner, M. S. Brandt, M. Stutzmann, 小田俊理.
英文:	Y. Nakamine, N. Inaba, T. Kodera, K. Uchida, R. N. Pereira, A. R. Stegner, M. S. Brandt, M. Stutzmann, S. Oda.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Japanese Journal of Applied Physics

巻, 号, ページ

Vol. 50 pp. 025002

出版年月

2011年2月

出版者

和文:
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会議名称

和文:
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開催地

和文:
英文:

DOI