サイドゲートとトップゲートを用いたシリコン二重結合量子ドット形成シミュレーション | T2R2 東京科学大学リサーチリポジトリ

論文・著書情報

タイトル

和文:	サイドゲートとトップゲートを用いたシリコン二重結合量子ドット形成シミュレーション
英文:

著者

和文:	蒲原知宏, 小寺哲夫, 山端元音, 内田建, 小田俊理.
英文:	Tomohiro Kambara, Tetsuo Kodera, Gento Yamahata, Ken Uchida, SHUNRI ODA.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

17p-ZE-1

出版年月

2010年9月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:	第71回応用物理学会学術講演会
英文:

開催地

和文:	長崎市
英文:

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