電子線連続照射に対するGd2SiO5:Ceの劣化特性

論文・著書情報

タイトル

和文:	電子線連続照射に対するGd2SiO5:Ceの劣化特性
英文:	Degradation Properties of Ce-Doped Gd2SiO5 Phoapher under Continuous Electron Beam Irradiation

著者

和文:	横田弘, 吉田誠人, 石橋浩之, 山元明, 矢野豊彦, 北側信一.
英文:	Hiroshi Yokota, Masato Yoshida, Hiroyuki Ishibashi, Hajime Yamamoto, Toyohiko Yano, Shinichi Kikkawa.

言語

Japanese

掲載誌/書名

和文:	日本セラミックス協会第22回秋季シンポジウム予稿集
英文:	Abst. the 22nd Fall Meeting of the Ceramic Society of Japan

巻, 号, ページ

1O03 p. 349

出版年月

2009年9月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:	日本セラミックス協会第22回秋季シンポジウム
英文:	22nd Fall Meeting of the Ceramic Society of Japan

開催地

和文:	愛媛大学
英文:	Ehime University