Strain-Induced Back Channel Electron Mobility Enhancement in Polycrystalline Silicon Thin-Film Transistors Fabricated by Continuous-Wave Laser Lateral Crystallization

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Strain-Induced Back Channel Electron Mobility Enhancement in Polycrystalline Silicon Thin-Film Transistors Fabricated by Continuous-Wave Laser Lateral Crystallization

著者

和文:	藤井俊太朗, 黒木伸一郎, 小谷光司, 伊藤隆司.
英文:	Shuntaro Fujii, Shin-Ichiro Kuroki, Koji Kotani, Takashi Ito.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Japanese Journal of Applied Physics

巻, 号, ページ

Vol. 50 No. 4 pp. 04DH10-1 - 04DH10-5

出版年月

2011年4月

出版者

和文:
英文:	Japanese Journal of Applied Physics

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文:

DOI