Above-Complementary Metal–Oxide–Semiconductor Metal Pattern Technique for Postfabrication Tuning of On-Chip Inductor Characteristics

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Above-Complementary Metal–Oxide–Semiconductor Metal Pattern Technique for Postfabrication Tuning of On-Chip Inductor Characteristics

著者

和文:	小谷光司, 杉本篤生, 大宮豊, 伊藤隆司.
英文:	Koji Kotani, Atsuo Sugimoto, Yutaka Omiya, Takashi Ito.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Japanese Journal of Applied Physics

巻, 号, ページ

Vol. 50 No. 4 pp. 04DB04-1 - 04DB04-5

出版年月

2011年4月

出版者

和文:
英文:	Japanese Journal of Applied Physics

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文: