Simulation of silicon double quantum dots device fabricated by combining lithographical and electrostatical approaches

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Simulation of silicon double quantum dots device fabricated by combining lithographical and electrostatical approaches

著者

和文:	Sulthoni Muhammad Amin, 小寺哲夫, 内田建, 小田俊理.
英文:	Muhammad Amin Sulthoni, Tetsuo Kodera, Ken Uchida, Syunri Oda.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:

巻, 号, ページ

19a-B-4

出版年月

2010年3月

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:	第57回応用物理学関係連合講演会
英文:

開催地

和文:	平塚市
英文: