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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Interfacial Doping by Recoil Implantation for Nonvolatile Memories 
著者
和文: 伊藤 隆司, 土屋 真平, 西 秀敏, 篠田 政一, 古谷 年男.  
英文: Takashi Ito, Shinpei Hijiya, Hidetoshi Nishi, Masaichi Shinoda, Toshio Furuya.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Japanese Journal of Applied Physics. Supplement 
巻, 号, ページ Vol. 17-1        pp. 201-206
出版年月 1978年 
出版者
和文: 
英文:The Japan Society of Applied Phisics 
会議名称
和文: 
英文: 
開催地
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英文: 

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