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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Thermal Nitridation of Silicon in Advanced LSI Processing 
著者
和文: 伊藤 隆司, 石川 元, 古川 由紀夫.  
英文: Takashi Ito, Hajime Ishikawa, Yukio Fukukawa.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Japanese Journal of Applied Physics. Supplement 
巻, 号, ページ Vol. 20-1        pp. 33-38
出版年月 1980年 
出版者
和文: 
英文:The Japan Society of Applied Phisics 
会議名称
和文: 
英文: 
開催地
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英文: 

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