Plasma enhanced Thermal Nitridation of Silicon

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Plasma enhanced Thermal Nitridation of Silicon

著者

和文:	伊藤隆司, 加藤一郎, 野崎尊夫, 中村哲夫, 石川元.
英文:	Takashi Ito, Ichiro Kato, Takao Nozak, Tetsuo Nakamura, Hajime Ishikawa.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Applied Phisics Letters

巻, 号, ページ

Vol. 38 No. 5 pp. 370-372

出版年月

1981年

出版者

和文:
英文:	American Institute of Physics

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文: