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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Ammonia Annealed SiO2 Films for Thin Gate Insulators 
著者
和文: 加藤 一郎, 伊藤 隆司, 井上 信市, 中村 哲夫, 石川 元.  
英文: Ichiro Kato, Takashi Ito, Shnichi Inoue, Tetsuo Nakamura, Hajime Ishikawa.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Japanese Journal of Applied Physics. Supplement 
巻, 号, ページ Vol. 21-1        pp. 153-158
出版年月 1982年 
出版者
和文: 
英文:The Japan Society of Applied Phisics 
会議名称
和文: 
英文: 
開催地
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英文: 

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