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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Characteristics of Thermally Nitrided Silicon Dioxide Film and Plasma Enhancement 
著者
和文: 加藤 一郎, 伊藤 隆司, 中村 哲夫, 石川 元.  
英文: Ichiro Kato, Takashi Ito, Tetsuo Nakamura, Hajime Ishikawa.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Journal of Electronic Materials 
巻, 号, ページ Vol. 13    No. 6    pp. 913-929
出版年月 1984年8月1日 
出版者
和文: 
英文:Springer 
会議名称
和文: 
英文: 
開催地
和文: 
英文: 

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