Wafer Cleaning with Photoexcited Chlorine and Thermal Treatment for High-Quality Silicon Epitaxy

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Wafer Cleaning with Photoexcited Chlorine and Thermal Treatment for High-Quality Silicon Epitaxy

著者

和文:	渡辺悟, 杉野林志, 山崎辰也, 奈良安雄, 伊藤隆司.
英文:	Satoru Watanabe, Rinshi Sugino, Tatsuya Yamazaki, Yasuo Nara, Takashi Ito.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Japanese Journal of Applied Physics

巻, 号, ページ

Vol. 28 No. 10 pp. 2167-2171

出版年月

1989年8月19日

出版者

和文:
英文:	The Japan Society of Applied Phisics

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文: