Continuous Growth of Low-Temperature Si Epitaxial Layer with Heavily Phosphorous and Boron Doping Using Photoepitaxy

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Continuous Growth of Low-Temperature Si Epitaxial Layer with Heavily Phosphorous and Boron Doping Using Photoepitaxy

著者

和文:	山崎辰也, 南方浩志, 伊藤隆司.
英文:	Tatsuya Yamazaki, Hiroshi Minakata, Takashi Ito.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Journal of The Electrochemical Society

巻, 号, ページ

Vol. 137 No. 6 pp. 1981-1987

出版年月

1990年6月1日

出版者

和文:
英文:	The Electrochemical Society

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文: