Etching of Si02 Film by Synchrotron Radiation in Hydrogen and its Application to Low Temperature Surface Cleaning

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Etching of Si02 Film by Synchrotron Radiation in Hydrogen and its Application to Low Temperature Surface Cleaning

著者

和文:	奈良安雄, 杉田義博, 中山範明, 伊藤隆司.
英文:	Yasuo Nara, Yoshihiro Sugita, Noriaki Nakayama, Takashi Ito.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Journal of Vaccum Science and Technology

巻, 号, ページ

Vol. B10 pp. 274-277

出版年月

1992年1月1日

出版者

和文:
英文:	AVS

会議名称

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英文:

開催地

和文:
英文: