Investigation of Thermal Removal of Native Oxide from Si (100) Surfaces in Hydrogen for Low-Temperature Si CVD Epitaxy

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Investigation of Thermal Removal of Native Oxide from Si (100) Surfaces in Hydrogen for Low-Temperature Si CVD Epitaxy

著者

和文:	山崎辰也, 宮田典男, 青山敬幸, 伊藤隆司.
英文:	Tatsuya Yamazaki, Norio Miyata, Takayuki Aoyama, Takashi Ito.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Journal of The Electrochemical Society

巻, 号, ページ

Vol. 139 No. 4 pp. 1175-1180

出版年月

1990年4月1日

出版者

和文:
英文:	The Electrochemical Society

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文: