Boron Diffusion Through Pure Silicon Oxide and Oxynitride for Metal-Oxide-Semiconductor Devices

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Boron Diffusion Through Pure Silicon Oxide and Oxynitride for Metal-Oxide-Semiconductor Devices

著者

和文:	青山敬幸, 鈴木邦広, 田代浩子, 山崎辰也, 有本由弘, 伊藤隆司.
英文:	Takayuki Aoyama, Kunihiro Suzuki, Hiroko Tashiro, Tatsuya Yamazaki, Yoshihiro Arimoto, Takashi Ito.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Journal of The Electrochemical Society

巻, 号, ページ

Vol. 140 No. 12 pp. 3624-3627

出版年月

1993年12月1日

出版者

和文:
英文:	The Electrochemical Society

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文: