Ultraviolet Excited Cl-Radical Etching of Si Through Native Oxides

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Ultraviolet Excited Cl-Radical Etching of Si Through Native Oxides

著者

和文:	杉野林志, 奈良安雄, 堀江博, 伊藤隆司.
英文:	Rinshi Sugino, Yasuo Nara, Hiroshi Horie, Takashi Ito.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Journal of Applied Physics

巻, 号, ページ

Vol. 76 No. 9 pp. 5498-5502

出版年月

1994年2月1日

出版者

和文:
英文:	American Institute of Physics

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文: