Effects of Vacuum-Ultraviolet-Light-Induced Surface Reaction on Selective and Anisotropic Etching of Silicon Dioxide Using Anhydrous Hydrogen Fluoride Gas

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Effects of Vacuum-Ultraviolet-Light-Induced Surface Reaction on Selective and Anisotropic Etching of Silicon Dioxide Using Anhydrous Hydrogen Fluoride Gas

著者

和文:	斉藤洋二, 今井英夫, 杉田義博, 伊藤隆司.
英文:	Yoji Saito, Hideo Imai, Yoshihiro Sugita, Takashi Ito.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Japanese Journal of Applied Physics

巻, 号, ページ

Vol. 34 No. 12B pp. 6882-6885

出版年月

1995年12月30日

出版者

和文:
英文:	The Japan Society of Applied Phisics

会議名称

和文:
英文:

開催地

和文:
英文: