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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Thermal Nitride Gate FET Technology for VLSI Devices 
著者
和文: 伊藤 隆司, 野崎 尊夫, 石川 元, 古川 由紀夫.  
英文: Takashi Ito, Takao Nozaki, Hajime Ishikawa, Yukio Fukukawa.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:ISSCC Dig. of Tech. Papers 
巻, 号, ページ         pp. 73-74
出版年月 1980年 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文: 
英文:ISSCC Dig. of Tech. Papers 
開催地
和文: 
英文:San Francisco 

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