Aluminum Plasma CVD for VLSI Circuit Inter-connections

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Aluminum Plasma CVD for VLSI Circuit Inter-connections

著者

和文:	伊藤隆司, Toshihiko Sugii, 中村哲夫.
英文:	Takashi Ito, Toshihiko Sugii, Tetsuo Nakamura.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Dig. of Tech. Papers on 1982 Symp. on VLSI Tech.

巻, 号, ページ

pp. 20-21

出版年月

1982年

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	Dig. of Tech. Papers on 1982 Symp. on VLSI Tech.

開催地

和文:	Oiso
英文: