Home >

news ヘルプ

論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Plasma Nitrided Silicon Dioxide Film for VLSI Gate Dielectrics 
著者
和文: 加藤 一郎, 伊藤 隆司, 中村 哲夫, 石川 元.  
英文: Ichiro Kato, Takashi Ito, Tetsuo Nakamura, Hajime Ishikawa.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Elec. Mat. Conf. 
巻, 号, ページ Vol. 6    No. 13    pp. 913-929
出版年月 1983年 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文: 
英文:Elec. Mat. Conf. 
開催地
和文: 
英文:Colorado Springs 

©2007 Institute of Science Tokyo All rights reserved.