Interfacial Oxidation of Ta205-Si Systems for High Density DRAM

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Interfacial Oxidation of Ta205-Si Systems for High Density DRAM

著者

和文:	加藤隆, 伊藤隆司, 田口真男, 中村哲夫, 石川元.
英文:	Takashi Kato, Takashi Ito, Masao Taguchi, Tetsuo Nakamura, Hajime Ishikawa.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Dig. of Tech. Papers on 1983 Symp. on VLSI Tech.

巻, 号, ページ

pp. 86-87

出版年月

1983年

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	Dig. of Tech. Papers on 1983 Symp. on VLSI Tech.

開催地

和文:
英文:	Maui