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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Thermal Nitridation Technologies for VLSI 
著者
和文: 伊藤 隆司, 石川 元.  
英文: Takashi Ito, Hajime Ishikawa.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Proc. Int. Conf. on Semicon. and Integrated Circ. Tech. 
巻, 号, ページ         pp. 53-54
出版年月 1986年 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文: 
英文:Proc. Int. Conf. on Semicon. and Integrated Circ. Tech. 
開催地
和文: 
英文:Beijing 

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