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論文・著書情報


タイトル
和文: 
英文:Growth and Properties of Silicon Dioxide Films 
著者
和文: 和田 邦彦, 伊藤 隆司.  
英文: Kunihiko Wada, Takashi Ito.  
言語 English 
掲載誌/書名
和文: 
英文:Proc. Symp. on ULSI Science and Tech., ECS Spring Meeting 
巻, 号, ページ         p. 119
出版年月 1987年 
出版者
和文: 
英文: 
会議名称
和文: 
英文:Proc. Symp. on ULSI Science and Tech., ECS Spring Meeting 
開催地
和文: 
英文:Boston 

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