Characterization  of Si-SiO2 Interfaces Formed After Photo-Excited Cleaning

論文・著書情報

タイトル

和文:
英文:	Characterization of Si-SiO2 Interfaces Formed After Photo-Excited Cleaning

著者

和文:	杉野林志, 滝沢隆二, 佐藤泰久, 伊藤隆司.
英文:	Rinshi Sugino, Ryuji Takizawa, Yasuhisa Sato, Takashi Ito.

言語

English

掲載誌/書名

和文:
英文:	Ext. Abs. of 2lst Conf. on SSDM

巻, 号, ページ

pp. 417-418

出版年月

1989年

出版者

和文:
英文:

会議名称

和文:
英文:	Ext. Abs. of 2lst Conf. on SSDM

開催地

和文:
英文:	Kobe